Kontrol suhu sareng kalembaban otomatis
Suhu sareng kalembaban kamar bersih utamana ditangtukeun dumasar kana sarat prosés, tapi dina kaayaan syarat prosés nyumponan, kanyamanan manusa kedah dipertimbangkeun.Kalayan paningkatan syarat kabersihan hawa, aya tren yén prosésna ngagaduhan syarat anu langkung ketat dina suhu sareng kalembaban.
Kusabab akurasi machining janten langkung saé sareng langkung saé, sarat pikeun kisaran fluktuasi suhu janten langkung alit sareng langkung alit.Salaku conto, dina prosés paparan litografi produksi sirkuit terpadu skala ageung, bédana antara koefisien ékspansi termal gelas sareng wafer silikon salaku bahan diafragma kedah langkung alit sareng langkung alit.Wafer silikon kalayan diaméter 100μm bakal nyababkeun ékspansi linier 0.24μm nalika suhu naék 1 derajat.Ku alatan éta, kudu boga hawa konstan ± 0,1 derajat.Dina waktu nu sarua, nilai kalembaban umumna diperlukeun pikeun jadi low, sabab sanggeus hiji jalma sweats, produk bakal kacemar, utamana Pikeun bengkel semikonduktor nu sieun natrium, jenis ieu bengkel bersih teu kudu ngaleuwihan 25 derajat.
Kalembaban anu kaleuleuwihan nyababkeun langkung seueur masalah.Nalika kalembaban relatif ngaleuwihan 55%, kondensasi bakal lumangsung dina témbok pipa cai cooling.Lamun lumangsung dina alat precision atawa sirkuit, éta bakal ngabalukarkeun sagala rupa kacilakaan.Gampang karat nalika kalembaban relatif 50%.Salaku tambahan, nalika kalembaban anu luhur teuing, lebu dina permukaan wafer silikon bakal diserep sacara kimia ku molekul cai dina hawa ka permukaan, anu hese dipiceun.Nu leuwih luhur kalembaban relatif, beuki hese nyabut adhesion, tapi lamun kalembaban relatif leuwih handap 30%, partikel ogé gampang adsorbed dina beungeut cai alatan aksi gaya éléktrostatik, sarta sajumlah badag semikonduktor. alat nu rawan ngarecahna.Kisaran suhu pangsaéna pikeun produksi wafer silikon nyaéta 35 ~ 45%.
